特許

J-GLOBAL ID：200903032166794506

プラズマ表面処理装置及びプラズマ表面処理方法

発明者： 湯浅 基和 ,  河合 重征 ,  屋良 卓也
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-133591
公開番号（公開出願番号）：特開平9-049083
出願日： 1996年05月28日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：

【要約】【課題】 大気圧下、少量の処理用ガスを用いるプラズマ表面処理装置及びプラズマ表面処理方法を提供する。【解決手段】 ガス吹き出し口を備えた固体誘電体容器が配設された一の電極、及び、当該ガス吹き出し口に対向して設けられた他の電極を有し、当該ガス吹き出し口から処理用ガスを連続的に排出させるようになされており、当該一の電極と当該他の電極間に電界を印加することによって放電プラズマを発生させるものであることを特徴とするプラズマ表面処理装置。

請求項（抜粋）：

ガス吹き出し口を備えた固体誘電体容器が配設された一の電極、及び、当該ガス吹き出し口に対向して設けられた他の電極を有し、当該ガス吹き出し口から処理用ガスを連続的に排出させるようになされており、当該一の電極と当該他の電極間に電界を印加することによって放電プラズマを発生させるものであることを特徴とするプラズマ表面処理装置。

IPC (2件)：

C23C 16/50 ,  C08J 7/00 306

FI (2件)：

C23C 16/50 ,  C08J 7/00 306