露光装置及び露光方法並びにマイクロデバイスの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：恩田博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-191213
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085321
出願日： 2000年06月26日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：

【要約】【課題】基板上のショット領域に対してより高精度にパターン像を重ねあわせることができる露光装置及び方法並びにデバイスの製造方法を提供する。【解決手段】走査露光可能な露光装置21により、ウエハW上にパターン像を投影露光する。光電検出装置51により露光されたパターン像を各ショット領域毎に計測し、撮像信号に光電変換して主制御系70に送る。この光電検出された像から倍率、ローテーション、スキュー及び形状成分のディストーションを算出する。これら各ディストーションを補正する基準補正値を算出し基準データファイルに記憶しハードディスク部72に格納する。新たに露光装置21によりウエハW上にパターン像を投影露光する際は、各ショット毎に対応する補正値によりディストーションを補正しつつ露光する。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンの像を基板上の複数のショット領域に順次転写することによって前記基板を露光する露光装置であって、前記パターンの像を基板上に転写する際に前記基板上の露光位置に応じて生じる前記パターン像のディストーション情報を記憶する記憶手段を有することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 514 B , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 525 W

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