特許
J-GLOBAL ID：200903032167714220
絶縁膜劣化の評価方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-008928
公開番号（公開出願番号）：特開平7-221150
出願日： 1994年01月31日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、電気特性の劣化に伴う絶縁膜の構造変化を捉えることのできる信頼性の高い評価方法及び装置を提供することを目的とする。【構成】 絶縁膜を有する試料7が保持される試料保持部1aと、前記絶縁膜を電気的に劣化せしめる絶縁膜劣化手段5、6、8、9、10と、赤外光を前記絶縁膜に対して照射する赤外光照射手段2、3a、3b、3cと、前記絶縁膜の透過若しくは反射赤外光を検出する赤外光検出手段4とを具備したことを特徴とする絶縁膜劣化の評価装置。
請求項（抜粋）：
絶縁膜を電気的に劣化せしめ、劣化後の前記絶縁膜に対して赤外光を照射し、前記絶縁膜からの透過若しくは反射赤外光を検出して、前記絶縁膜の劣化を評価することを特徴とする絶縁膜劣化の評価方法。
IPC (3件)：
H01L 21/66
, G01N 21/00
, G01N 21/35
