特許

J-GLOBAL ID：200903032170435413

回転ステージ保持装置および回転ステージの保持方法

発明者： 余平 哲也
出願人/特許権者： 株式会社リコー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-071654
公開番号（公開出願番号）：特開2002-267780
出願日： 2001年03月14日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：

【要約】【課題】 回転ステージの位置を高精度に保持し、回転ステージの不規則振動を低減することが可能な回転ステージ保持装置の実現を課題とする。【解決手段】 サーボ回転機構を有し光学素子などのワークを測定するための測定治具を構成する回転ステージ保持装置において、回転ステージの回転軸1を保持するパッド3を設け、このパッド3内に作動流体を注入し、この作動流体の圧力を制御するようにする。

請求項（抜粋）：

サーボ回転機構を有し光学素子などのワークを測定するための測定治具を構成する回転ステージ保持装置において、回転ステージと、前記回転ステージを保持するパッドと、このパッド内に注入される作動流体と、この作動流体の圧力を制御する流体圧制御弁とを有することを特徴とする回転ステージ保持装置。

IPC (3件)：

G12B 5/00 ,  F16F 15/16 ,  B23Q 1/28

FI (3件)：

G12B 5/00 A ,  F16F 15/16 Z ,  B23Q 1/28

Fターム (9件)：

2F078CA06 ,  2F078CB16 ,  2F078CC05 ,  2F078CC15 ,  3C048BC02 ,  3C048CC07 ,  3C048CC20 ,  3C048DD12 ,  3C048EE10