特許

J-GLOBAL ID：200903032175939991

フォトクロミックオルガノポリシロキサンおよびその製造方法

発明者： 中島 久隆 ,  入江 正浩
出願人/特許権者： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 ,  入江 正浩
代理人 (1件)： 久保田 芳譽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-275552
公開番号（公開出願番号）：特開平10-101802
出願日： 1996年09月26日
公開日（公表日）： 1998年04月21日
要約：

【要約】【課題】 紫外線の照射によってスペクトルの変化を伴う分子構造の変化を生じ、次いで、可視光の照射によって、この分子構造が元に戻るというフォトクロミズムを示す新規なフォトクロミックオルガノポリシロキサン、およびこのような新規なフォトクロミックオルガノポリシロキサンを効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】 分子中のケイ素原子に、一般式:【化1】(式中、R1は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、シアノ基、アシル基、カルボキシル基、ニトロ基、およびアミノ基からなる群から選択される基、またはアルキレン基、アリーレン基とアルキレン鎖を有する基、エステル結合とアルキレン鎖を有する基、アミド結合とアルキレン鎖を有する基、およびエーテル結合とアルキレン鎖を有する基からなる群から選択される二価有機基であり、ただし、少なくとも1個のR1はこの二価有機基であり、nは3または4である。)で表されるフォトクロミック有機基を結合しているフォトクロミックオルガノポリシロキサン、およびヒドロシリル化反応による上記フォトクロミックオルガノポリシロキサンの製造方法。

請求項（抜粋）：

分子中のケイ素原子に、一般式:【化1】(式中、R1は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、シアノ基、アシル基、カルボキシル基、ニトロ基、およびアミノ基からなる群から選択される基、またはアルキレン基、アリーレン基とアルキレン鎖を有する基、エステル結合とアルキレン鎖を有する基、アミド結合とアルキレン鎖を有する基、およびエーテル結合とアルキレン鎖を有する基からなる群から選択される二価有機基であり、ただし、少なくとも1個のR1はこの二価有機基であり、nは3または4である。)で表されるフォトクロミック有機基を結合しているフォトクロミックオルガノポリシロキサン。

IPC (2件)：

C08G 77/392 ,  G03C 1/73 503

FI (2件)：

C08G 77/392 ,  G03C 1/73 503