特許
J-GLOBAL ID:200903032187464182

ホスホナイト配位子を基礎とする少なくとも一種類のニッケル(0)錯体を含有する触媒、及びニトリルの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 江藤 聡明
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-511587
公開番号(公開出願番号):特表2001-516640
出願日: 1998年09月09日
公開日(公表日): 2001年10月02日
要約:
【要約】下式I【化1】の少なくとも一種類の単座、二座又は多座ホスホナイト配位子を有する少なくとも1個のニッケル(0)錯体、又はその塩、混合物を含有する触媒、その製造方法及びこの触媒の存在下にブタジエン又は1,3-ブタジエン含有炭化水素混合物を接触的ヒドロシアン化することによる、共役C=C及びC≡N結合を有するモノオレフィン性C5モノニトリルの製造方法。
請求項(抜粋):
下式I 【化1】で表され、かつ式中の Aが、これと結合されているホスホナイト基の一部と共に、1個所、2個所又は3個所においてシクロアルキル、アリール及び/又はヘテロアリールと更に縮合されていてもよい5から8員のヘテロ環を形成し(上記の縮合基は、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ニトロ、シアノ、カルボキシルの中から選ばれる1個、2個又は3個の置換基を持っていてもよい)、 R1が、それぞれ1個、2個又は3個の置換基、すなわちアルキル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、シクロアルコキシ、アシル、アリールオキシ、ハロゲン、トリフルオロメチル、ニトロ、シアノ、カルボキシル又はNE1E2(E1、E2は相互に同じでも異なってもよく、それぞれアルキル、シクロアルキル又はアリールである)を意味するか、あるいは R1が、下式II -X-O-Y (II)(式中のXは、1個、2個又は3個の二重結合を持っていてもよく、かつ/もしくは1個所、2個所もしくは3個所で、1個、2個又は3個の以下の置換基、すなわちアルキル、シクロアルキル、アリール、アルコキシ、シクロアルコキシ、アリールオキシ、ハロゲン、トリフルオロメチル、ニトロ、シアノ、カルボキシ又はNE1E2(このE1、E2は上述した意味を有する)を持っていてもよいアリール及び/又はヘテロアリールと縮合されていてもよいC3-C6アルキレンブリッジであり、 Yは、下式III.1又はIII.2 【化2】で表され、このDはAにつき上述したのと同じ意味を有する場合の基である)を意味する場合の単座、二座又は多座ホスホナイト配位子、その塩又は混合物を有することを特徴とするニッケル(0)錯体を含有する触媒。
IPC (3件):
B01J 31/22 ,  C07F 9/6574 ,  C07F 15/04
FI (4件):
B01J 31/22 Z ,  C07F 9/6574 A ,  C07F 9/6574 Z ,  C07F 15/04

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