特許
J-GLOBAL ID：200903032188091002
金属酸化膜成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-329291
公開番号（公開出願番号）：特開平6-172989
出願日： 1992年12月09日
公開日（公表日）： 1994年06月21日
要約：
【要約】【目的】 スパッタリング等の薄膜形成装置により金属酸化膜を成膜する際の、酸化の影響を受けず、且つハイレートに金属酸化膜を成膜することのできる金属酸化膜成膜方法を提供する。【構成】 下地の上に酸化の影響のない酸化金属ターゲットを用い、Arガスを放電ガスとするスパッタリング方法により薄く酸化金属膜を成膜後、その上に金属酸化膜に含有される金属ターゲットを用いて、O2 ガスを反応性ガス、Arガスを放電ガスとするリアクティブスパッタリング方法により金属酸化膜を成膜すること(異種成膜法による積層成膜)に依り、酸化の影響なくハイレートに金属酸化膜を成膜することのできる金属酸化膜成膜方法が提供される。
請求項（抜粋）：
スパッタリング等による薄膜形成装置を用いる金属酸化膜の成膜方法において、下地の上に同酸化金属ターゲットを用いて、酸化薄膜を成膜後、金属酸化膜に含有される金属ターゲットを用いて、リアクティブスパッタにより金属酸化膜を成膜することを特徴とする、金属酸化膜成膜方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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