特許

J-GLOBAL ID：200903032189871370

レジストパターン形成方法

発明者： 塘 洋一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-255782
公開番号（公開出願番号）：特開平6-084784
出願日： 1992年08月31日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：

【要約】【目的】 高解像度のレジストパターン形成の際の、定在波の問題等によって生じるスカム発生や解像不良の問題をもたらさないレジストパターン形成方法を提供する。【構成】 レジスト2をエキシマレーザー光等で露光し現像してレジストパターンを形成する際、レジストを露光後、レジストを溶解し得る溶媒の蒸気に晒し(a)、必要に応じベークして脱溶媒を行い(b)、現像を行うレジストパターン形成方法。

請求項（抜粋）：

レジストを露光現像してレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法において、レジストを露光後、レジストを溶解し得る溶媒の蒸気に晒し、その後現像を行うことを特徴とするレジストパターン形成方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/38 511

FI (2件)：

H01L 21/30 361 K ,  H01L 21/30 361 G