特許

J-GLOBAL ID：200903032192869999

砥液供給装置

発明者： 川島 清隆 ,  谷川 睦 ,  下元 博 ,  丁野 恵子
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-337319
公開番号（公開出願番号）：特開2001-150347
出願日： 1999年11月29日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
要約：

【要約】【課題】 研磨ユニットへ、添加剤を安定的に含む砥液を供給することができる砥液供給装置を提供する。【解決手段】 研磨部12に砥液を供給する砥液供給装置であって、所定の濃度の砥液を貯留する供給タンク18と、該供給タンクから砥液を前記研磨部の砥液ノズル146に送る砥液配管46と、所定の濃度の添加剤を貯留する添加剤タンク203と、前記添加剤タンクから前記砥液供給タンク又は前記砥液配管を含む砥液経路の所定箇所において添加剤を砥液に添加する添加剤配管220とを有する。

請求項（抜粋）：

研磨部に砥液を供給する砥液供給装置であって、所定の濃度の砥液を貯留する供給タンクと、該供給タンクから砥液を前記研磨部の砥液ノズルに送る砥液配管と、所定の濃度の添加剤を貯留する添加剤タンクと、前記添加剤タンクから前記砥液供給タンク又は前記砥液配管を含む砥液経路の所定箇所において添加剤を砥液に添加する添加剤配管とを有することを特徴とする砥液供給装置。

IPC (3件)：

B24B 57/02 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304 622

FI (3件)：

B24B 57/02 ,  B24B 37/00 K ,  H01L 21/304 622 E

Fターム (12件)：

3C047FF08 ,  3C047FF11 ,  3C047GG14 ,  3C047GG15 ,  3C047GG17 ,  3C047GG18 ,  3C047GG19 ,  3C047GG20 ,  3C058AA07 ,  3C058AC04 ,  3C058CB03 ,  3C058DA17

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ラップ加工装置の使用済み組成物の再生循環方法および再生循環装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-176902   出願人：株式会社フジミインコーポレーテッド
• 研磨剤、研磨方法および半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-351341   出願人：富士通株式会社, 三井金属鉱業株式会社
• 研磨装置及び研磨方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-340063   出願人：株式会社日立製作所