特許
J-GLOBAL ID：200903032205246295
スパッタリング用チタンターゲットおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大場 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-331110
公開番号（公開出願番号）：特開平9-143704
出願日： 1995年11月27日
公開日（公表日）： 1997年06月03日
要約：
【要約】【課題】 パーティクルの発生が少なく、方向の揃ったスパッタ粒子を放出することが可能なバッキングプレートを有するチタンターゲットおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 予め最大粒径20μm以下、平均結晶粒径10μm以下の再結晶組織に調製したチタンターゲット材と、アルミニウムを主体とするバッキングプレートとを、接触させた状態で300から450°C、圧力50から200MPaの条件で静水圧プレスを行い、微細な再結晶組織を保ったターゲットを得る。静水圧プレスには、アルミニウムの容器あるいは0.5mm以下の金属箔を容器として使用できる。接合時において、チタンターゲット材には、粗面化処理を施しておくことが望ましい。
請求項（抜粋）：
最大粒径20μm以下、平均結晶粒径10μm以下の再結晶組織を有するチタンターゲット材が、アルミニウムを主体とするバッキングプレートに拡散接合されてなるスパッタリング用チタンターゲット。
IPC (2件)：
FI (3件)：
C23C 14/34 A
, C23C 14/34 C
, B23K 20/00 B
