特許

J-GLOBAL ID：200903032209981550

2層TABの製造方法

発明者： 増田 幹 ,  高津 明郎
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-357870
公開番号（公開出願番号）：特開平6-196529
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：

【要約】【目的】 2層TABの製造方法のレジストパターン形成工程でレジストパターンの形成具合いをより正確に判断出来るようにすることにより、最終のリードパターンの形成具合いを推測し、結果が悪い場合には製造を中断する2層TABの製造方法を提案する。【構成】 2層TABの製造方法のレジストパターン形成工程において、リード形成領域以外の該金属層上にリードを形成するためのレジストパターンと類似したレジストパターンを設ける。

請求項（抜粋）：

絶縁性樹脂基体の片面に接着剤を用いることなく金属層を形成したものを基体とし、該基体を出発材料として、該金属層上にリソグラフィー法とセミアデイティブ法を組み合わせることにより所定のリードを形成する2層TABの製造方法のレジストパターン形成工程において、リード形成領域以外の該金属層上にリードを形成するためのレジストパターンと類似したレジストパターンを設けたことを特徴とする2層TABの製造方法。