特許
J-GLOBAL ID:200903032210245728
複数位置から複数のX線ビームを生成するための装置及び方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-533406
公開番号(公開出願番号):特表2007-504636
出願日: 2004年05月25日
公開日(公表日): 2007年03月01日
要約:
マルチビームX線生成装置は、陰極上に所定のパターンで配置され、固定され個々に制御可能な複数の電子放出ピクセルを有した、固定電界放出陰極と、前記ピクセルの前記所定パターンに対応する、所定パターンで配置された複数の焦点を備えた、前記陰極の反対側に位置する陽極と、前記陽極及び陰極を覆う真空槽と、を備える。別の構成は、その少なくとも一部に電子放出物質が配置された平面状の表面を有した固定電界放出陰極と、前記陰極の平面状の表面に対して空間を隔てて平行に設けられ、サイズの異なる複数の開口部を有したゲート電極と、前記陰極と空間を隔てて反対側に位置し、前記電子放出物質に合わせて複数の焦点を有する陽極と、前記陽極及び陰極を覆う真空槽と、を備え、前記ゲート電極は、少なくとも1つの焦点及びその登録位置から外れた位置へ、前記陰極から放出された電子の少なくとも1つのビームを送出するように前記開口部を操作できるように、動作可能であるX線生成装置として実現される。関連する方法も開示されている。
請求項(抜粋):
陰極上に所定のパターンで配置され、固定され個々に制御可能な複数の電子放出ピクセルを備えた、固定電界放出陰極と、
前記ピクセルの前記所定パターンに対応する、所定パターンで配置された複数の焦点を備えた、前記陰極の反対側に位置する陽極と、
前記陽極及び陰極を覆う真空槽と、を備えることを特徴とするマルチビームX線生成装置。
IPC (3件):
H01J 35/06
, H01J 1/304
, H05G 1/00
FI (4件):
H01J35/06 B
, H01J1/30 F
, H01J35/06 Z
, H05G1/00 D
Fターム (13件):
4C092AA02
, 4C092AB30
, 4C092AC01
, 4C092AC08
, 4C092AC17
, 4C092BD04
, 4C092BD05
, 4C092BD09
, 5C135AA09
, 5C135AA15
, 5C135AB07
, 5C135AC01
, 5C135HH20
引用特許:
出願人引用 (13件)
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米国特許第5594770号公報
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米国特許(代理人明細書番号033627-003、「真空及び気体の電子機器のためのナノ物質に基づく電界放出陰極」)
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米国特許6385292号公報、「固体CTシステム及び方法」
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米国特許出願公開番号US-2002/0085674、「フラットパネルX線源を用いた造影装置」
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米国特許6456691号公報、「X線生成装置」
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米国特許第4926452号公報
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米国特許第4809308号公報
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米国特許(出願番号09/296,572、「カーボン・ナノチューブ電界エミッタ構造を備える装置及び装置を形成する処理」)
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米国特許(出願番号09/351,537、「薄膜カーボン・ナノチューブ電界エミッタ構造」)
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米国特許6553096号公報、「電界放出陰極を用いたX線生成手法」
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米国特許出願公開番号US-2002/0094064、「広域で個別にアドレス可能なマルチビームX線システムと、同じものを形成する方法」
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米国特許(出願番号10/358,160、「電子ビーム電流を制御する方法及び装置」)
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米国特許出願公開番号US-2002/0140336、「改善された電子放出及び燃焼の特性を有する被覆電極」
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審査官引用 (8件)
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