特許
J-GLOBAL ID:200903032226554909

無電解めっき浴

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-210812
公開番号(公開出願番号):特開平6-033255
出願日: 1992年07月14日
公開日(公表日): 1994年02月08日
要約:
【要約】【目的】 めっき速度が高く、しかもリン含有率が高いめっき皮膜を形成することができる無電解めっき浴を提供する。【構成】 ニッケルイオンと、該ニッケルイオンを還元するための還元剤と、該ニッケルイオンを錯化するための錯化剤としてのマロン酸、ヒドロキシカルボン酸、ポリアミン、アミノ酸、またはそれらの塩のうちのの少なくとも1種と、添加剤としての鉛化合物および硫酸塩とよりなる無電解めっき浴。上記錯化剤と添加剤とが共同して作用するため、めっき速度が向上し、しかもリン含有率の高いめっき皮膜を形成する。
請求項(抜粋):
リンを含有するニッケル合金を無電解めっきするためのめっき浴であって、ニッケルイオンと、ニッケルイオンを還元するための還元剤と、ニッケルイオンを錯化するための錯化剤としてのマロン酸、ヒドロキシカルボン酸、ポリアミン、アミノ酸、またはそれらの塩のうちの少なくとも1種と、鉛化合物と、硫酸塩とよりなることを特徴とする無電解めっき浴。

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