特許
J-GLOBAL ID：200903032230220640
自動洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-320335
公開番号（公開出願番号）：特開平5-160101
出願日： 1991年12月04日
公開日（公表日）： 1993年06月25日
要約：
【要約】【目的】 薬液処理、流水洗浄、乾燥処理および搬送時における被処理物のデバイス形成面と収納治具との接触を防止し、デバイス形成面の付着異物数を低減することができる自動洗浄装置を提供する。【構成】 半導体集積回路装置の製造工程における半導体ウエハの自動洗浄装置であって、ウエハ1を収納するウエハカセット2と、化学的薬液処理を行う薬液処理槽3と、ウエハカセット2に収納されたウエハ1を薬液処理槽3内で傾斜させる傾斜機構6と、流水処理槽、乾燥処理槽および搬送アームとから構成されている。そして、洗浄処理時には、傾斜機構6によってウエハ1のデバイス形成面8が所定の角度θだけ上向きに傾斜され、また搬送時においても、デバイス形成面が上向きに傾斜される。
請求項（抜粋）：
被処理物の洗浄から乾燥までを行う自動洗浄装置であって、前記被処理物を処理槽内で処理する際に、該被処理物のデバイス形成面を所定の角度だけ上向きに傾斜させ、該デバイス形成面を収納治具に接触させることなく洗浄および乾燥を行い、かつ前記被処理物のデバイス形成面を所定の角度だけ上向きに傾斜させた状態で処理槽間を搬送することを特徴とする自動洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 351
, H01L 21/68
