特許
J-GLOBAL ID:200903032232534049
二重構造を有する非晶質シリカ粒子、その製法及び用途
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴木 郁男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-139995
公開番号(公開出願番号):特開平11-060231
出願日: 1998年05月21日
公開日(公表日): 1999年03月02日
要約:
【要約】【課題】 粒径が一定しており、微粒子の発生がなく、艶消し作用やアンチブロッキング作用に優れているとともに、磨耗傾向が少なく、耐傷付き性乃至耐擦傷性にも優れた新規構造の非晶質シリカ粒子を提供する。【解決手段】 濃密な非晶質シリカのコアと嵩高な非晶質シリカのシェルとの二重構造を有し、体積基準のメジアン径が1乃至5μmの範囲にあり且つ粒径0.5μm以下の微粒子の含有率が10容積%以下であることを特徴とする非晶質シリカ粒子を提供する。
請求項(抜粋):
濃密な非晶質シリカのコアと嵩高な非晶質シリカのシェルとの二重構造を有し、体積基準のメジアン径が1乃至5μmの範囲にあり且つ粒径0.5μm以下の微粒子の含有率が10容積%以下であることを特徴とする非晶質シリカ粒子。
IPC (6件):
C01B 33/12
, C08K 3/36
, C08K 7/26
, C08K 9/02
, C09D 5/00
, C09D 7/12
FI (6件):
C01B 33/12 Z
, C08K 3/36
, C08K 7/26
, C08K 9/02
, C09D 5/00 F
, C09D 7/12 Z
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