特許
J-GLOBAL ID:200903032245308951

ジスアゾ化合物及びそれを含有する染料系偏光膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 久保山 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-030903
公開番号(公開出願番号):特開平8-225750
出願日: 1995年02月20日
公開日(公表日): 1996年09月03日
要約:
【要約】【目的】 染料、特に偏光膜用の染料として有用なジスアゾ化合物、及び当該化合物を含有する染料系偏光膜を提供する。【構成】 下式(I)【化1】(式中、Q1 はフェニル基、置換ナフチル基等を表わし、R1 及びR2 は水素、ヒドロキシ基、低級アルキル等を表わし、Rはヒドロキシ基を表わすが、R2 とRは一緒になってO-Cu-Oを形成してもよい。)で示されるジスアゾ化合物、及び該ジスアゾ化合物を偏光膜基材に含有してなる染料系偏光膜。【効果】 式(I) で示されるジスアゾ化合物を偏光膜基材に含有してなる染料系偏光膜は、偏光性能に優れ、しかも湿熱条件下での耐久性にも優れている。
請求項(抜粋):
遊離酸の形で、下式(I)【化1】(式中、Q1 はフェニル基、置換フェニル基または少なくとも1個のスルホにより置換されたナフチル基を表し、R1 及びR2 はそれぞれ独立して水素原子、ヒドロキシ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基または置換アミノ基を表し、Rはヒドロキシ基を表すが、R2 とRは一緒になって錯結合O-Cu-Oを形成してもよい。)で示されるジスアゾ化合物。
IPC (4件):
C09B 31/068 ,  C09B 45/28 ,  C09K 19/60 ,  G02B 5/30
FI (4件):
C09B 31/068 ,  C09B 45/28 ,  C09K 19/60 A ,  G02B 5/30

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