特許

J-GLOBAL ID：200903032249840909

蒸着装置

発明者： 吉田 正典
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-096530
公開番号（公開出願番号）：特開2003-297565
出願日： 2002年03月29日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：

【要約】【課題】 成膜レートの高精度化。【解決手段】 有機EL膜材料の蒸気の放出口10にこの放出口の開口部の面積を調整する機能を持つ仕切り11を具備する。最適温度条件でセル内の有機EL膜材料を加熱し、同時に成膜レートを精密に制御する。成膜レートをモニタリングしながら、仕切りの開口部を調整する。

請求項（抜粋）：

真空槽内に、基板を保持させる基板保持部と、前記基板に被蒸着物をパターニングさせて蒸着させるように前記基板に相対しかつ前記被蒸着物との間に配置されるマスクを保持するマスク保持部と、前記被蒸着物が配置されるセルと、前記セルが収納されるセル室と、前記セル内の前記被蒸着物を加熱してその被蒸着物の蒸気を発生させる加熱手段と、前記蒸気を放出させるための前記セル室に開口される蒸気放出口と、前記セル室の蒸気放出口に配置されて前記蒸気放出口の面積を調整することで前記被蒸着物の蒸気の放出の量を制御するセル室開口面積調整部と、前記マスクと前記セル室開口面積調整部との間に配置されかつ前記基板に蒸着される被蒸着物の成膜レートを測定する水晶振動子膜厚計と、前記水晶振動子膜厚計からの成膜レート情報をもとに前記成膜レートを制御するために前記セル室開口面積調整部を制御して前記被蒸着物の蒸気の放出量を調整する成膜レート制御手段とを有することを特徴とする蒸着装置。

IPC (3件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/24 ,  H05B 33/14

FI (3件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/24 U ,  H05B 33/14 A

Fターム (12件)：

3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029BC07 ,  4K029CA01 ,  4K029DB12 ,  4K029EA01 ,  4K029EA02 ,  4K029HA04