ペリクルフレーム及びフォトリソグラフィー用ペリクル

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：好宮幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-172107
公開番号（公開出願番号）：特開2005-352096
出願日： 2004年06月10日
公開日（公表日）： 2005年12月22日
要約：

【課題】ペリクル膜を貼付した際にペリクル膜の張力によってフレームが撓んでも十分な露光領域を有するペリクルを得ることができ、かつ加工後の寸法を正確に計測することができるペリクルフレーム、及びそのペリクルフレームを用いたフォトリソグラフィー用ペリクルを提供する。【解決手段】フォトリソグラフィー用ペリクルのペリクルフレームであって、該フレームの少なくとも一対の辺の外側の形状が直線であり、且つ該辺の内側の形状が外側方向に向かって凸状に形成されているものであることを特徴とするペリクルフレーム。及び、そのペリクルフレームを具備するフォトリソグラフィー用ペリクル。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

フォトリソグラフィー用ペリクルのペリクルフレームであって、該フレームの少なくとも一対の辺の外側の形状が直線であり、且つ該辺の内側の形状が外側方向に向かって凸状に形成されているものであることを特徴とするペリクルフレーム。

IPC (2件)：

G03F1/14 , H01L21/027

FI (2件)：

G03F1/14 K , H01L21/30 502P

Fターム (1件)：

2H095BC38

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭58-219023号公報
米国特許第4861402公報
特開昭63-27707号公報

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審査官引用 (4件)

ペリクル用枠体
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-141111 出願人：旭化成電子株式会社
大型ペリクル用枠体
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-216069 出願人：旭化成電子株式会社
ペリクル及びマスク
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-126668 出願人：株式会社ルネサステクノロジ

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