特許
J-GLOBAL ID：200903032268224330

レジスト組成物

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-112372
公開番号（公開出願番号）：特開2003-307839
出願日： 2002年04月15日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：
【要約】【課題】 感度、解像力及びプロファイルが優れたレジスト組成物を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、-CON-結合又は-SO2N-結合を有する基を含有する特定のスルホニウム化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。【化1】一般式(I)中、Y1及びY2は、各々独立に、アルキル基、アリール基、アラルキル基、複素環基、オキソアルキル基、又はオキソアラルキル基を表す。Y1とY2が結合して環を形成しても良い。Aaは、単結合又は有機基を表す。Baは、-CON(Ra)-結合を有する基又は-SO2N(Ra)-結合を有する基を表す。Raは、水素原子又はアルキル基を表す。mは1〜3の整数を表す。X-は、非求核性アニオンを表す。
IPC (10件)：
G03F 7/004 503 ,  C07C381/12 ,  C08F 12/14 ,  C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  C08F232/04 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (10件)：
G03F 7/004 503 A ,  C07C381/12 ,  C08F 12/14 ,  C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  C08F232/04 ,  C09K 3/00 K ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (68件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AB40 ,  4H006AB76 ,  4J100AB04 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AR09P ,  4J100AR11P ,  4J100AR11Q ,  4J100AR11R ,  4J100AR32Q ,  4J100AR32R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03 ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA11S ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA16R ,  4J100BC03R ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC04S ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC07R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53S ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (3件)

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