特許

J-GLOBAL ID：200903032270001623

処理装置

発明者： 金田 正利 ,  千場 教雄 ,  木村 義雄 ,  飽本 正巳 ,  坂本 泰大 ,  陣内 信幸
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-338499
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150335
出願日： 1998年11月12日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：

【要約】【課題】 複数の処理ユニットに対してその雰囲気の温度および湿度を個々に制御することができ、それによって全ユニットの雰囲気を同一に調整したり、個々のユニットの処理内容に応じて異なる雰囲気に調整すること。【解決手段】 共通の気体供給源8にて、温度調整部81および湿度調整部82により、複数の塗布ユニット32の各雰囲気調整部7で調整すべき気体の温度よりも低い温度および含水量となるように清浄気体の温度および湿度を調整し、それを各雰囲気調整部7にて、加温器73および加湿器74により所望の温度および含水量となるように再度調整することにより、複数の塗布ユニット32に対して一律の温度および湿度の清浄気体を供給し、全塗布ユニット32の雰囲気を同一に調整する。

請求項（抜粋）：

被処理体を処理する複数の処理ユニットと、各処理ユニット毎に設けられ、雰囲気用の気体について少なくとも温度調整をしてその気体を処理ユニットに供給する雰囲気調整部と、雰囲気用の気体の温度を制御する温度調整部を有し、該温度調整部により温度調整された雰囲気用の気体を各雰囲気調整部に送る共通の気体供給源と、を具備することを特徴とする処理装置。

Fターム (3件)：

5F046JA07 ,  5F046JA24 ,  5F046LA13

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-013926   出願人：大日本スクリーン製造株式会社