特許
J-GLOBAL ID：200903032273796201
プラズマ処理装置のクリーニング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鴨田 朝雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-169057
公開番号（公開出願番号）：特開平6-140333
出願日： 1981年11月30日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：
【要約】【目的】 複数の被膜の積層形成のために共通室に対し並列に配置された複数のプラズマ反応炉を有する形成の被膜積層方法において、反応炉のエッチングクリーニングを行う。【構成】 複数の被膜の積層形成のために共通室に対し並列に配置された複数のプラズマ反応炉を有する形成の被膜積層方法において、複数のプラズマ反応炉の一部において、被膜形成を行わずに反応炉内壁のエッチングを行う。
請求項（抜粋）：
減圧可能な共通室から、複数の被膜の積層形成に対応して該共通室に対し並列に配置され且つ気密連結された複数のプラズマ反応炉へ基板を搬入搬出させて、基板上に被膜を積層形成するに際し、前記複数のプラズマ反応炉の一部において、被膜形成を行わずに、反応炉内壁のエッチングを行うことを特徴とするプラズマ処理装置のクリーニング方法。
IPC (2件)：
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