特許
J-GLOBAL ID:200903032292376175
コンタクトホール検査用標準試料、その製造方法およびコンタクトホール検査方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡辺 喜平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-340636
公開番号(公開出願番号):特開2000-164715
出願日: 1998年11月30日
公開日(公表日): 2000年06月16日
要約:
【要約】【課題】 コンタクトホールの底面の残存膜厚を容易に求めるための技術の提供。【解決手段】 支持基板10上に、膜厚が既知のシリコン酸化膜からなる擬似残存膜12と、感光性樹脂を硬化処理した樹脂層14とを順次に積層し、この樹脂層14に、当該樹脂層を貫通する開口部16を設けたコンタクトホール検査用標準試料とし、標準試料と検査対象のコンタクトホールとの二次電子像のコントラストを比較することにより、不良コンタクトホール底面の残存膜厚を評価する。
請求項(抜粋):
支持基板上に、膜厚が既知の擬似残存膜と、感光性樹脂を硬化処理した樹脂層とを順次に積層し、前記樹脂層に、当該樹脂層を貫通する開口部を設けたことを特徴とするコンタクトホール検査用標準試料。
IPC (4件):
H01L 21/768
, H01L 21/28
, H01L 21/3065
, H01L 21/66
FI (6件):
H01L 21/90 A
, H01L 21/28 C
, H01L 21/28 L
, H01L 21/66 Y
, H01L 21/302 E
, H01L 21/90 C
Fターム (106件):
4M104AA01
, 4M104AA09
, 4M104BB01
, 4M104BB02
, 4M104BB04
, 4M104BB06
, 4M104BB09
, 4M104BB14
, 4M104BB16
, 4M104BB18
, 4M104BB22
, 4M104BB30
, 4M104CC01
, 4M104DD07
, 4M104DD08
, 4M104DD16
, 4M104DD17
, 4M104DD18
, 4M104DD19
, 4M104DD20
, 4M104DD63
, 4M104DD65
, 4M104DD79
, 4M104EE02
, 4M104EE08
, 4M104EE12
, 4M104EE14
, 4M104EE15
, 4M104EE17
, 4M104EE18
, 4M104HH20
, 4M106AA07
, 4M106AA10
, 4M106AB17
, 4M106BA02
, 4M106CA48
, 4M106DH03
, 4M106DH24
, 4M106DH33
, 4M106DJ18
, 5F004AA09
, 5F004BB01
, 5F004CB05
, 5F004CB14
, 5F004EA21
, 5F004EA26
, 5F004EB01
, 5F033GG04
, 5F033HH01
, 5F033HH03
, 5F033HH04
, 5F033HH07
, 5F033HH08
, 5F033HH11
, 5F033HH13
, 5F033HH15
, 5F033HH18
, 5F033HH19
, 5F033HH20
, 5F033HH25
, 5F033HH31
, 5F033HH33
, 5F033KK01
, 5F033KK04
, 5F033KK07
, 5F033KK08
, 5F033KK11
, 5F033KK13
, 5F033KK15
, 5F033KK18
, 5F033KK19
, 5F033KK20
, 5F033KK25
, 5F033KK32
, 5F033KK33
, 5F033NN34
, 5F033QQ06
, 5F033QQ09
, 5F033QQ13
, 5F033QQ37
, 5F033QQ39
, 5F033QQ74
, 5F033QQ76
, 5F033QQ81
, 5F033QQ82
, 5F033QQ84
, 5F033RR01
, 5F033RR04
, 5F033RR06
, 5F033RR08
, 5F033RR09
, 5F033RR11
, 5F033RR21
, 5F033RR22
, 5F033RR23
, 5F033RR24
, 5F033RR25
, 5F033RR27
, 5F033RR29
, 5F033SS25
, 5F033SS27
, 5F033SS30
, 5F033TT01
, 5F033WW01
, 5F033XX34
, 5F033XX37
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