特許
J-GLOBAL ID：200903032292964581
投影露光装置の位置決め方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-244481
公開番号（公開出願番号）：特開平6-097031
出願日： 1992年09月14日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：
【要約】【目的】 オフ・アクシス方式のアライメント系を備えた投影露光装置において、アライメント系のベースライン量やレチクルの回転量を高精度に計測する。【構成】 ウエハステージ6のウエハWの隣に大型基準マーク板17を固定し、大型基準マーク板17上にTTR方式のアライメント系5A,5Bとウエハアライメント系9とが同時に観察できるような間隔で、基準マーク38A,38B及び基準マーク39を形成する。ウエハステージ6の走り方向を基準マーク38A及び38Bを結ぶ直線で定まる座標系に沿うように補正し、レチクルRを基準マーク38A及び38Bを基準にして固定する。
請求項（抜粋）：
露光すべきパターンとアライメント用の複数のマークとが形成されたマスクを位置決めして固定するマスクステージと、複数の基板マークが形成された感光基板を保持して該感光基板を位置決めする基板ステージと、前記マスクのパターンを前記基板ステージ上の前記感光基板上の各基板マークの近傍の領域に結像投影する投影光学系と、前記マスクを介することなく前記感光基板上の基板マークを検出する第1のマーク検出手段と、前記基板ステージ上に配置された前記マスク用の基準マークの共役像と前記マスクのマークとの位置ずれ量を前記投影光学系を介して検出する第2のマーク検出手段とを備えた投影露光装置の前記基板ステージの位置決め方法において、前記基板ステージ上に設けられ、前記第1のマーク検出手段によって検出される第1の基準マーク及び前記マスク用の基準マークとしての複数の第2の基準マークがそれぞれ前記第1のマーク検出手段及び第2のマーク検出手段により同時に検出されるように離れて配置された基準マーク板と、前記基板ステージの移動座標及び回転量を計測する基板ステージ座標計測手段とを有し、予め前記基準マーク板と前記基板ステージ座標計測手段の座標軸との傾きを計測しておき、前記基板ステージの走り座標軸を前記基準マーク板を基準にして定めるようにした事を特徴とする投影露光装置の位置決め方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 9/00
