ホトマスク

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-121528
公開番号（公開出願番号）：特開平5-315216
出願日： 1992年05月14日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：

【要約】【目的】薄膜トランジスタアレイをパターン化するホトマスクの露光ポジションを正確に求めることにより、重ね合せ精度を上げ、薄膜トランジスタの特性向上を図る。【構成】薄膜トランジスタアレイを製造する際第2回目以降の露光実施時にパターンの重ね合せ精度を上げるため、プレートのX方向プレート用アライメントマーク4、Y,θ方向プレート用アライメントマーク3を設け、Y方向,θ方向,X方向をサーチし露光原点となるプレート中心を求めた後、プレート全体の広範囲にわたってポジション計測用マーク5を設け、ポジション計測用マーク5について伸縮量等を計測し、X方向プレート用アライメントマーク4、Y,θ方向プレート用アライメントマークより求めた露光原点に補正をかけて、極力、真の露光原点に近いポイントを求める。

請求項（抜粋）：

ホトマスク本体の周辺部に露光機にセットする際に使用するホトマスク用Y方向アライメントマークとホトマスク用X方向アライメントマークとホトマスク用θ方向アライメントマークと、本パターン周辺部の外側に薄膜トランジスタ基板が露光ステージにセットされた時に仮想中心の算出に使用するY方向プレート用アライメントマークとX方向プレート用アライメントマークとθ方向プレート用アライメントマークとを有するホトマクスにおいて、前記本パターン周辺部の外側に前記薄膜トランジスタ基板の伸縮の変位量を広範囲に計測するポジション計測用マークを設けたことを特徴とするホトマスク。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G02F 1/1345 , G03F 1/08

FI (3件)：

H01L 21/30 301 P , H01L 21/30 301 M , H01L 21/30 311 L

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