特許
J-GLOBAL ID:200903032311191084
高周波誘導加熱装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-205208
公開番号(公開出願番号):特開2001-032016
出願日: 1999年07月19日
公開日(公表日): 2001年02月06日
要約:
【要約】【課題】被加熱物の形状に拘らず、効率的に所望の加熱が行える高周波誘導加熱装置を提供することを目的とする。【解決手段】高周波電流を供給する高周波電流源と、この高周波電流が供給されることにより交番磁界を発生させる加熱コイルと、この交番磁界を集めるコアと、該加熱コイルに対する該コアの相対位置を制御するコア位置制御手段と、を有することを特徴とする高周波誘導加熱装置。
請求項(抜粋):
高周波電流を供給する高周波電流源と、この高周波電流が供給されることにより交番磁界を発生させる加熱コイルと、この交番磁界を集めるコアと、該加熱コイルに対する該コアの相対位置を制御するコア位置制御手段と、を有することを特徴とする高周波誘導加熱装置。
IPC (3件):
C21D 1/10
, C21D 1/42
, H05B 6/06 301
FI (4件):
C21D 1/10 G
, C21D 1/10 S
, C21D 1/42 T
, H05B 6/06 301
Fターム (9件):
3K059AA08
, 3K059AB24
, 3K059AC37
, 3K059AC72
, 3K059AD03
, 3K059AD15
, 3K059BD23
, 3K059CD14
, 3K059CD72
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