特許
J-GLOBAL ID:200903032313533268

水素選択透過膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 俊夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-066813
公開番号(公開出願番号):特開2003-260339
出願日: 2002年03月12日
公開日(公表日): 2003年09月16日
要約:
【要約】【課題】 高い分離性能を有し、物理的な接触等による欠陥の発生が少なく、しかも低温での水素脆化による分離性能の低下が抑制され、また共存ガスによる水素透過速度の低下が抑制された水素選択透過性金属膜を用いた水素選択透過膜を提供する。【解決手段】 膜支持体上に水素選択透過性金属膜を形成させ、該金属膜の透過上流側表面が水素選択透過性高分子物質で被覆されている水素選択透過膜。この水素選択透過膜は、膜型反応器として有効に用いられる。
請求項(抜粋):
膜支持体上に水素選択透過性金属膜を形成させ、該金属膜の透過上流側表面が水素選択透過性高分子物質で被覆されていることを特徴とする水素選択透過膜。
IPC (3件):
B01D 71/02 500 ,  B01D 71/70 500 ,  C01B 3/56
FI (3件):
B01D 71/02 500 ,  B01D 71/70 500 ,  C01B 3/56 Z
Fターム (16件):
4D006GA41 ,  4D006HA02 ,  4D006MA01 ,  4D006MA06 ,  4D006MA10 ,  4D006MC02X ,  4D006MC65X ,  4D006NA31 ,  4D006NA45 ,  4D006NA46 ,  4D006PB66 ,  4D006PC69 ,  4G140FA06 ,  4G140FB09 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 高純度水素の製造方法及びその装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-136872   出願人:チョンクオシーユーグーフウンユーシェンコンシー
  • 特開昭62-186922
  • 特開昭62-227409

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