特許

J-GLOBAL ID：200903032320775048

スチレン系共重合体及びその製造法

発明者： 南 裕 ,  庄崎 肇
出願人/特許権者： 出光石油化学株式会社
代理人 (1件)： 大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-016714
公開番号（公開出願番号）：特開2001-206916
出願日： 2000年01月26日
公開日（公表日）： 2001年07月31日
要約：

【要約】【課題】 SPSの優れた特性を維持しつつ、ガラス転移温度と融点のバランスが良く、熱処理後にもゲルの発生がなく、低温射出成形を可能にするスチレン系共重合体及びその効率のよい製造法を提供すること。【解決手段】 スチレンあるいは置換スチレンに由来する繰り返し単位(I)と一般式 CH2 =CH-R〔式中、RはC(R2 )=C(R3 )(R4 )を示し、R2 は水素原子又は炭化水素基を示し、R3 及びR4 はそれぞれ独立に炭化水素基を示し、R2 とR3 ,R2 とR4 ,R3 とR4 は結合して環を形成してもよい。〕で表される化合物に由来する繰り返し単位(II) からなり、該繰り返し単位(II)を0.1〜75モル%含有するとともに、スチレン系繰り返し単位(I)の連鎖の立体規則性が主としてシンジオタクチック構造であることを特徴とするスチレン系共重合体である。

請求項（抜粋）：

一般式(I)【化1】〔式中、R1 は水素原子,ハロゲン原子あるいは炭素数20個以下の炭化水素基を示し、mは1〜3の整数を示す。なお、mが複数のときは、各R1 は同じでも異なってもよい。〕で表されるスチレン系繰り返し単位(I)及び一般式(II') CH2 =CH-R ・・・・・・(II')〔式中、RはC(R2 )=C(R3 )(R4 )を示し、R2 は水素原子又は炭化水素基を示し、R3 及びR4 はそれぞれ独立に炭化水素基を示し、R2 とR3 ,R2 とR4 ,R3 とR4 は結合して環を形成してもよい。〕で表される化合物に由来する繰り返し単位(II) からなり、該繰り返し単位(II)を0.1〜75モル%含有するとともに、スチレン系繰り返し単位(I)の連鎖の立体規則性が主としてシンジオタクチック構造であることを特徴とするスチレン系共重合体。

IPC (3件)：

C08F212/04 ,  C08F 4/642 ,  C08F236:04

FI (3件)：

C08F212/04 ,  C08F 4/642 ,  C08F236:04

Fターム (62件)：

4J028AA01A ,  4J028AB01A ,  4J028AC01A ,  4J028AC07A ,  4J028AC08A ,  4J028AC10A ,  4J028AC26A ,  4J028AC28A ,  4J028AC31A ,  4J028AC41A ,  4J028AC44A ,  4J028AC45A ,  4J028AC46A ,  4J028AC47A ,  4J028AC48A ,  4J028BA00A ,  4J028BA01B ,  4J028BA02B ,  4J028BA03B ,  4J028BB00A ,  4J028BB01B ,  4J028BB02B ,  4J028BC05B ,  4J028BC09B ,  4J028BC12B ,  4J028BC15B ,  4J028BC16B ,  4J028BC24B ,  4J028BC25B ,  4J028EB12 ,  4J028EB17 ,  4J028EB21 ,  4J028EC02 ,  4J028FA01 ,  4J028FA02 ,  4J028FA03 ,  4J028FA04 ,  4J028GA12 ,  4J100AB02P ,  4J100AB04P ,  4J100AB07P ,  4J100AB08P ,  4J100AB09P ,  4J100AB10P ,  4J100AB15P ,  4J100AB16P ,  4J100AS01Q ,  4J100AS06Q ,  4J100AS15Q ,  4J100AU21Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA29P ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA12 ,  4J100DA24 ,  4J100DA25 ,  4J100FA10