特許
J-GLOBAL ID:200903032325033198
一酸化炭素とグリコール類の製造法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
大石 征郎 (外1名)
, 大石 征郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-079915
公開番号(公開出願番号):特開平8-253306
出願日: 1995年03月10日
公開日(公表日): 1996年10月01日
要約:
【要約】【目的】 低温条件下での反応でありながら、極めて高い転化率を示す一酸化炭素とグリコール類の製造法を提供することを目的とする。【構成】 炭酸ガス、水素およびオキシラン類を、触媒としての遷移金属錯体の存在下に反応させる。炭酸ガスとオキシラン類から合成した環状炭酸エステルを水素と反応させることもできる。反応は、溶媒中で塩基の存在下に行う。反応温度は100〜180°C(たとえば140°C)が適当である。遷移金属錯体の代表例は、ルテニウム系のカルボニル錯体である。
請求項(抜粋):
炭酸ガス、水素およびオキシラン類を、触媒としての遷移金属錯体の存在下に反応させることを特徴とする一酸化炭素とグリコール類の製造法。
IPC (5件):
C01B 31/18 ZAB
, B01J 19/00 ZAB
, B01J 31/16 ZAB
, C07B 61/00 300
, C07C 31/20 ZAB
FI (5件):
C01B 31/18 ZAB A
, B01J 19/00 ZAB A
, B01J 31/16 ZAB Z
, C07B 61/00 300
, C07C 31/20 ZAB A
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