特許
J-GLOBAL ID：200903032368473019
合成石英ガラスインゴットの製造方法および合成石英ガラス母材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-317045
公開番号（公開出願番号）：特開2001-139333
出願日： 1999年11月08日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
要約：
【要約】【課題】 この発明は、ターゲットに堆積して形成されるる多孔質シリカガラス母材の移動速度および/又は酸水素ガス供給量を調整して、シリカガラス母材中央部のかさ密度を上端部および下端部のかさ密度より大きくし、これを焼結し透明化して得られる合成石英ガラスインゴットの中央部と上端部又は下端部の太さ径の差を少なくしようとするものである。【解決手段】VAD合成石英ガラス母材製法で製造した多孔質シリカガラス母材を透明化炉内で焼結し透明化して合成石英ガラスインゴットを製造するにあたり、回転、上昇するターゲットに堆積して形成された多孔質シリカガラス母材の移動速度および/又は酸水素ガス供給量を調整して、多孔質シリカガラス母材のかさ密度を0.2〜1.0g/cm3 とし、しかも前記母材中央部のかさ密度を上端部および下端部のかさ密度より大きくすることにより、多孔質シリカガラス母材を焼結し透明化して得られる合成石英ガラスインゴットの中央部と上端部又は下端部の太さ径の差を少なくすることを特徴とする合成石英ガラスインゴットの製造方法。
請求項（抜粋）：
反応炉内に懸垂されて回転、上昇するターゲットに、珪素を含む原料ガスおよび酸水素ガスを供給し原料ガスを加水分解して前記ターゲットに多孔質シリカガスを堆積させるVAD合成石英ガラス母材製法で多孔質シリカガラス母材を形成し、この母材を透明化炉内で焼結し透明化して合成石英ガラスインゴットを製造するにあたり、回転、上昇するターゲットに堆積して形成された多孔質シリカガラス母材の移動速度および/又は酸水素ガス供給量を調整して、多孔質シリカガラス母材のかさ密度を0.2〜1.0g/cm3 とし、しかも前記母材の中央部のかさ密度を上端部および下端部のかさ密度より大きくすることにより、多孔質シリカガラス母材を焼結し透明化して得られる合成石英ガラスインゴットの中央部と上端部又は下端部の太さ径の差を少なくすることを特徴とする合成石英ガラスインゴットの製造方法。
Fターム (2件)：
引用特許：
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