特許

J-GLOBAL ID：200903032385839108

2段固定床反応装置におけるエチレンのオキシ塩素化反応

発明者： カルメロ,ディエゴ ,  ファツット,ピエルルイギ ,  マルセラ,アンドレア
出願人/特許権者： イーヴィーシー・テクノロジー・アクチエン・ゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-525532
公開番号（公開出願番号）：特表平11-503410
出願日： 1996年02月01日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：

【要約】エチレン、塩素源および酸素源が触媒の存在下固定床オキシ塩素化反応装置中で反応させられる、1,2-ジクロロエタン(EDC)を製造するエチレンのオキシ塩素化において、2つの反応系が用いられ、そして触媒は反応剤の流れが先ず高活性触媒の第1層と、引き続いて低活性触媒の第2層と、そして最後に高活性触媒の第3層と接触するように活性プロファイルが準備された塩化第2銅触媒である方法。

請求項（抜粋）：

エチレン、塩素源および酸素源を触媒の存在下固定床オキシ塩素化反応装置中で反応させることからなる、エチレンのオキシ塩素化により1,2-ジクロロエタン(EDC)を製造する方法であって、2つの反応系が用いられ、そして触媒は反応剤の流れが先ず高活性触媒の第1層と、引き続いて低活性触媒の第2層と、そして最後に高活性触媒の第3層と接触するように活性プロファイルが準備された塩化第2銅触媒であることを特徴とする方法。

IPC (5件)：

C07C 19/045 ,  B01J 23/78 ,  C07C 17/02 ,  C07C 17/156 ,  C07B 61/00 300

FI (5件)：

C07C 19/045 ,  B01J 23/78 X ,  C07C 17/02 ,  C07C 17/156 ,  C07B 61/00 300