特許

J-GLOBAL ID：200903032386360876

プラズマリアクタ装置

発明者： 緒方 秀武
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 佐野 静夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-164688
公開番号（公開出願番号）：特開2000-353690
出願日： 1999年06月11日
公開日（公表日）： 2000年12月19日
要約：

【要約】【課題】 加工精度及び加工レートを劣化させることなく処理能力を向上することのできるコストパフォーマンスに優れたプラズマリアクタ装置を提供する。【解決手段】 基板Wを設置するためにチャンバー1内に配される基板電極5と、高周波電圧を発生する高周波電源4と、高周波電源4による高周波電圧の誘導結合により反応性ガスをプラズマ化するプラズマ生成部1aとを備え、生成されたプラズマにより基板Wに表面加工を施すプラズマリアクタ装置において、プラズマ生成部1aに面するように基板電極5を複数設けた。

請求項（抜粋）：

基板を設置するためにチャンバー内に配される基板電極と、高周波電圧を発生する高周波電源と、前記高周波電源による高周波電圧の誘導結合により反応性ガスをプラズマ化するプラズマ生成部とを備え、生成されたプラズマにより該基板に表面加工を施すプラズマリアクタ装置において、前記基板電極を前記プラズマ生成部に面して複数設けたことを特徴とするプラズマリアクタ装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  C23C 16/505 ,  H05H 1/46

FI (3件)：

H01L 21/302 B ,  C23C 16/505 ,  H05H 1/46 M

Fターム (10件)：

4K030DA08 ,  4K030FA04 ,  4K030KA15 ,  4K030KA30 ,  4K030LA15 ,  4K030LA18 ,  5F004BA20 ,  5F004BB16 ,  5F004BD04 ,  5F004BD05