特許

J-GLOBAL ID：200903032390751367

表面処理方法及び表面処理装置

発明者： 山口 静 ,  馬場 昇 ,  寺門 一佳 ,  鍵山 新
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-374359
公開番号（公開出願番号）：特開2001-192861
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
要約：

【要約】【課題】 金属材料部材の表面に密着性に優れた被膜を形成する。【解決手段】 被処理品を配置した減圧容器中にガス物質を供給してプラズマを生成させるとともに、加熱保持した被処理品を陰極として高電圧パルスを印加することによりガス物質のイオンを被処理品表面に注入し内部に拡散させて被処理品の合金元素により化合物を析出させて表面硬化層を形成し、そののち連続して表面硬化層の表面に金属蒸発源からの金属蒸気と反応ガスによって被膜を形成する。

請求項（抜粋）：

被処理品を配置した減圧容器中にガス物質を供給して該ガス物質のプラズマを生成させるとともに、加熱保持した被処理品を陰極として高電圧パルスを印加することによりガス物質のイオンを被処理品表面に注入し内部に拡散させて被処理品の合金元素により化合物を析出させて表面硬化層を形成するステップと、そののち連続して前記表面硬化層の表面に金属蒸発源からの金属蒸気と前記減圧容器内に供給された反応ガスによって被膜を形成するステップとを含むことを特徴とする表面処理方法。

IPC (4件)：

C23C 28/02 ,  C23C 8/38 ,  C23C 8/80 ,  C23C 14/02

FI (4件)：

C23C 28/02 ,  C23C 8/38 ,  C23C 8/80 ,  C23C 14/02 Z

Fターム (26件)：

4K028BA02 ,  4K028BA03 ,  4K028BA12 ,  4K028BA21 ,  4K029AA02 ,  4K029BA54 ,  4K029BA55 ,  4K029BA58 ,  4K029BB02 ,  4K029BD04 ,  4K029CA10 ,  4K029DE00 ,  4K029GA03 ,  4K044AA02 ,  4K044AA03 ,  4K044BA01 ,  4K044BA02 ,  4K044BA10 ,  4K044BA18 ,  4K044BB03 ,  4K044BC01 ,  4K044BC05 ,  4K044BC06 ,  4K044CA07 ,  4K044CA13 ,  4K044CA14

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-011762
  
• 特開昭58-064377
  
• 特開平2-011762
  
• 特開昭58-064377