高周波加熱装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 濱田百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-130370
公開番号（公開出願番号）：特開2004-335304
出願日： 2003年05月08日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：

【課題】加熱室の中央と隅との間にマイクロ波の電界強度の差のない、均一加熱ができる省スペースの高周波加熱装置を提供する。【解決手段】高周波発生部と、該高周波発生部からの高周波を供給して被加熱物を加熱処理する天井・側壁・床部から構成される加熱室と、を有する高周波加熱装置において、高周波発生部が前記床部の裏側端部に設けられ、裏側略全体が前記高周波発生部からの高周波を導く導波管構造をしており、かつ床部の略全面に高周波を前記加熱室内へ通過させる給電口を多数個備え、しかも前記高周波発生部から供給される高周波の周波数を5.8GHzとした。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

高周波発生部と、該高周波発生部からの高周波を供給して被加熱物を加熱処理する天井・側壁・床部から構成される加熱室と、を有する高周波加熱装置において、多数の給電口を備えて成る直方体状広域導波管を前記加熱室の裏側に備え、かつ前記高周波発生部を前記直方体状広域導波管の直近に設けたことを特徴とする高周波加熱装置。

IPC (4件)：

H05B6/66 , H05B6/64 , H05B6/70 , H05B6/72

FI (4件)：

H05B6/66 A , H05B6/64 Z , H05B6/70 E , H05B6/72 D

Fターム (13件)：

3K086AA01 , 3K086BA08 , 3K086FA06 , 3K086FA08 , 3K090AA01 , 3K090AA20 , 3K090BA01 , 3K090CA02 , 3K090DA03 , 3K090EB01 , 3K090EB03 , 3K090EB04 , 3K090EB09

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