イオン照射装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石島茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-085950
公開番号（公開出願番号）：特開平10-261378
出願日： 1997年03月19日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：

【要約】【課題】試料表面が中性ガス粒子で汚染されず、また、2次電子電流を測定できるイオン照射装置を提供する。【解決手段】中性粒子除去室30の後方に、オリフィス6を配置し、イオン源10から引き出したイオンビームをイオン集束器4によって集束させ、オリフィス6中に焦点を結ばせる。試料室40内を真空排気する際に、オリフィス6前方の雰囲気を真空排気すると、中性ガス粒子が試料室40内に進入しない。イオン照射対象の試料2の周囲に、試料2とは絶縁した状態で2次電子捕集板9を設け、2次電子を捕集するようにすると、2次電子電流を単独に測定することができる。

請求項（抜粋）：

イオン源と、中性粒子除去室と、試料室とを有し、前記イオン源から引き出されたイオンビームが前記中性粒子除去室内で中性ガス粒子を除去され、前記試料室内に配置された試料表面に照射されるように構成されたイオン照射装置であって、オリフィスと、焦点位置可変のイオン集束器とが設けられ、前記オリフィスは前記中性粒子除去室の後段に配置され、前記イオンビームは、前記イオン集束器で集束され、前記オリフィスを通って前記試料に照射されるように構成されたことを特徴とするイオン照射装置。

IPC (2件)：

H01J 37/252 , H01J 37/317

FI (2件)：

H01J 37/252 B , H01J 37/317 Z

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭59-066043
特開平4-253149
負イオン注入装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-052495 出願人：日新電機株式会社

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