特許
J-GLOBAL ID：200903032395908329
イオン注入装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-253441
公開番号（公開出願番号）：特開平7-105901
出願日： 1993年10月08日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：
【要約】【構成】 イオン注入装置は、所望の不純物イオンのみからなるイオンビーム1に質量分析する質量分析器3と、イオンビーム1を加速する加速器4と、加速器4の後段に配設されたフィルター装置11とを有している。フィルター装置11は、所望の不純物イオンのみを通過させるように、イオンビーム1を質量分析する磁場を形成するフィルターマグネット5を備えている。【効果】 加速器4の通過時にイオンビーム1に発生する不要な不純物イオンをフィルター装置11により略完全に除去することができるため、ウエーハ9に注入されるコンタミネーション粒子を充分に低減させることができる。
請求項（抜粋）：
所望の不純物イオンのみからなるイオンビームに質量分析する質量分析手段と、上記イオンビームを加速する加速手段と、上記イオンビームに発生する不要な不純物イオンを除去するフィルター手段とを有したイオン注入装置において、上記フィルター手段は、上記加速手段の後段で、且つ上記イオンビームを走査するビーム走査手段の前段に配設されており、所望の不純物イオンのみを通過させるように、イオンビームを質量分析する磁場を形成するフィルターマグネットを備えており、この偏向角が所望イオンに対して15°〜60°の範囲であることを特徴とするイオン注入装置。
IPC (3件)：
H01J 37/317
, C23C 14/48
, H01L 21/265
