特許

J-GLOBAL ID：200903032398875430

投影露光装置の光学系収差の検出方法および光学系収差検出用レベンソン型位相シフトマスク

発明者： 入江 重夫
出願人/特許権者： 松下電子工業株式会社
代理人 (1件)： 宮井 暎夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-206311
公開番号（公開出願番号）：特開平11-052582
出願日： 1997年07月31日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】【課題】 0.2μm以下の微細パターンでのコマ収差の検出を容易に行う。【解決手段】 露光マスクとしてレベンソン型位相シフトマスクを用い、レベンソン型位相シフトマスクに設けられたマスクパターンを投影露光装置を用いて所定の縮小率で縮小して感光基板に転写することにより感光基板に形成した縮小転写パターンと、レベンソン型位相シフトマスクのマスクパターンを投影露光装置の縮小率と同じ縮小率で縮小した縮小マスクパターンとを比較することにより、投影露光装置の光学系コマ収差を検出する。検出したコマ収差に従って、マスクの補正または露光装置の光学系収差の調整を行う。

請求項（抜粋）：

位相シフトマスクに設けられたマスクパターンを投影露光装置を用いて所定の縮小率で縮小して感光基板に転写することにより前記感光基板に形成した縮小転写パターンと前記位相シフトマスクのマスクパターンを前記投影露光装置の縮小率と同じ縮小率で縮小した縮小マスクパターンとを比較することにより前記投影露光装置の光学系収差を検出することを特徴とする投影露光装置の光学系収差の検出方法。

IPC (4件)：

G03F 7/20 521 ,  G03B 43/00 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/20 521 ,  G03B 43/00 ,  G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 528