特許

J-GLOBAL ID：200903032423766462

ステージ装置および露光装置ならびに回路デバイス製造方法

発明者： 木内 徹 ,  堀川 浩人
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-305632
公開番号（公開出願番号）：特開2001-126977
出願日： 1999年10月27日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：

【要約】【課題】ステージの加減速に伴う反力の影響の少ないステージ装置を提供する。【解決手段】定盤8の移動面上を1次元又は2次元移動する可動体10と、定盤8を装置設置場所の床面上に防振して支持する防振マウント機構2A〜2Cとを備えたステージ装置であって、防振マウント機構2A〜2Cの荷重印加部3A〜3Cが定盤8の移動面よりも高くなるように、防振マウント機構2A〜2Cの荷重印加部3A〜3Cから定盤8を懸架状態で支持する懸架支持部7A〜7Cを設けるとともに、定盤8の移動面とほぼ平行な方向に関して防振マウント機構2A〜2Cと定盤8との相対変位を許容するように、防振マウント機構2A〜2Cの荷重印加部3A〜3Cと懸架支持部7A〜7Cとの間に可動支承機構5Aを設けている。

請求項（抜粋）：

定盤の移動面上を1次元又は2次元移動する可動体と、前記定盤を装置設置場所の床面上に防振して支持する防振マウント機構とを備えたステージ装置において、前記防振マウント機構の荷重印加部が前記定盤の移動面よりも高くなるように、前記防振マウント機構の荷重印加部から前記定盤を懸架状態で支持する懸架支持部を設けるとともに、前記定盤の移動面とほぼ平行な方向に関して前記防振マウント機構と前記定盤との相対変位を許容するように、前記防振マウント機構の荷重印加部と前記懸架支持部との間に可動支承機構を設けたことを特徴とするステージ装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G12B 5/00 ,  H01L 21/68

FI (7件)：

G03F 7/20 521 ,  G12B 5/00 T ,  H01L 21/68 G ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 503 F ,  H01L 21/30 515 G ,  H01L 21/30 516 B

Fターム (28件)：

2F078CA02 ,  2F078CA08 ,  2F078CB05 ,  2F078CB09 ,  2F078CB10 ,  2F078CB12 ,  2F078CB13 ,  2F078CB16 ,  2F078CC11 ,  2F078CC14 ,  5F031CA02 ,  5F031HA55 ,  5F031HA57 ,  5F031MA27 ,  5F046AA23 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC16 ,  5F046CC17 ,  5F046CC20 ,  5F046DA06 ,  5F046DA07 ,  5F046DA08 ,  5F046DB05 ,  5F046DB11 ,  5F046DB14