特許
J-GLOBAL ID:200903032425877350

ホスファゼン系化合物、それを用いた防炎加工剤および防炎加工方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-111296
公開番号(公開出願番号):特開平10-298188
出願日: 1997年04月28日
公開日(公表日): 1998年11月10日
要約:
【要約】【課題】 ハロゲン系化合物を使用せず、後加工処理により合成繊維に対して十分に耐久性のある防炎性を容易に付与することのできる防炎加工剤および防炎加工方法を提供する。【解決手段】 一般式(1)または(3)【化1】【化2】〔式中の記号は、明細書中に規定した意味を表す〕で表されるホスファゼン系化合物、このホスファゼン系化合物の少なくとも1種を含む防炎加工剤およびこのホスファゼン系化合物の少なくとも1種を用いて合成繊維を処理する防炎加工方法。
請求項(抜粋):
下記一般式(1)または(3)で表されるホスファゼン系化合物。【化1】〔式中、nは1以上の整数を表し、Xはそれぞれ炭素数1〜4のアルコキシ基または下記一般式(2)【化2】(式中、R1 は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜3のアルコキシ基を表す)で表されるフェノキシ基を表す。但し、Xの全てが炭素数1〜4のアルコキシ基であったり、または前記式(2)のフェノキシ基であることはない〕【化3】〔式中、mは0または1以上の整数を表し、Yはそれぞれ炭素数1〜4のアルコキシ基または下記一般式(4)【化4】(式中、R2 は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜3のアルコキシ基を表す)で表されるフェノキシ基を表す。但し、Yの全てが炭素数1〜4のアルコキシ基であったり、または前記式(4)のフェノキシ基であることはない〕
IPC (6件):
C07F 9/6593 ,  C07F 9/24 ,  C07F 9/6581 ,  C09K 21/12 ,  D06M 13/44 ,  D06M 15/673
FI (6件):
C07F 9/6593 ,  C07F 9/24 Z ,  C07F 9/6581 ,  C09K 21/12 ,  D06M 13/44 ,  D06M 15/673
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平4-198190
  • 特開平4-198190
  • 特開平4-198190
引用文献:
審査官引用 (5件)
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