特許
J-GLOBAL ID：200903032427113412
テーパー形状の形成方法およびプラズマエッチング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 和音
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-259841
公開番号（公開出願番号）：特開平8-100278
出願日： 1994年09月30日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：
【要約】【目的】テーパー形状の制御を自由に行うことができ、工程数が少ないテーパー形状の形成方法およびプラズマエッチング装置を提供する。【構成】シリコン酸化膜52の表面上にフォトレジスト材53を塗布し、露光現像してレジストパターンを形成する。シリコン酸化膜52に対してプラズマエッチングを施す。この際、プラズマエッチングにおけるエッチング速度を決定するパラメーターの少なくとも1つを変化させることにより、シリコン酸化膜52の横方向に対するエッチング速度Vxと縦方向に対するエッチング速度Vyとの比を連続的に変化させることによりシリコン酸化膜52の側面部にテーパー部54を形成する。
請求項（抜粋）：
被処理膜の表面上に所望のレジストパターンを形成した後、プラズマエッチングによりエッチングする際に、前記プラズマエッチングにおけるエッチング速度を決定するパラメーターの少なくとも1つを変化させることにより、前記被処理膜の横方向に対するエッチング速度と縦方向に対するエッチング速度との比を連続的に変化させることにより前記被処理膜の側面部にテーパー部を形成することを特徴とするテーパー形状の形成方法。
IPC (2件)：
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