特許

J-GLOBAL ID：200903032432871686

半導体ウェハ撮像装置

発明者： 後藤 禎
出願人/特許権者： 日本精工株式会社
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  田中 克郎 ,  大賀 眞司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-126222
公開番号（公開出願番号）：特開2007-299909
出願日： 2006年04月28日
公開日（公表日）： 2007年11月15日
要約：

【課題】半導体ウェハによらず最適なコントラストを得ること。【解決手段】波長の異なる発光ダイオードLD1〜LD3のうち少なくとも1つを選択し、選択した発光ダイオードLDを点灯するとともにその光量を調整する光源制御回路として機能する増幅回路と制御装置を備え、光源制御回路によって選択された発光ダイオードLDの発光による照射光を半導体ウェハ18と半導体ウェハ18に重ねるように配置されたマスク40の照明エリアに対して照射する。半導体ウェハ18とマスク40に対して波長の異なる光を照射できるとともに、照射光の光量を調整することができるので、半導体ウェハ18の種類によらずアライメント精度のばらつきを低減することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

半導体ウェハと前記半導体ウェハに重ねるように配置されたマスクの撮像領域に対して光を照射する照明手段と、前記照明手段から前記半導体ウェハと前記マスクに照射された光の反射光を入射して、前記半導体ウェハ上に形成された位置決め用のウェハマークと前記マスクに形成したマスクマークを撮像する撮像手段と、前記撮像手段の撮像による撮像データを処理して前記ウェハマークの前記マスクマークに対する相対位置を認識する認識手段とを備え、前記照明手段は、波長の相異なる光を発光する複数の光源と、前記複数の光源のうち少なくとも1つを選択し、選択した光源を点灯するとともにその光量を調整する光源制御回路とを有してなる半導体ウェハ撮像装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L21/30 507G

Fターム (4件)：

5F046BA01 ,  5F046BA02 ,  5F046FA07 ,  5F046FA10