特許

J-GLOBAL ID：200903032449193258

露光方法及び露光装置

発明者： 川島 美代子 ,  斉藤 謙治 ,  杉田 充朗 ,  鈴木 章義 ,  岩崎 裕一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-050600
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150366
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：

【要約】【課題】 複雑な回路パターンを形成できる二重露光法を提供すること。【解決手段】 通常の投影露光装置を用いてマスクのゲートパターンの像でレジストを露光する(通常露光ステップ)と共に、2光束干渉露光装置を用いて前記パターンの像よりもコントラストが高い周期パターン像を形成し、このコントラストが高い周期パターン像によって前記レジストの前記パターンの像の形成位置を露光する(周期パターン露光ステップ)ことにより、前記レジストの前記ゲートパターンの内の従来露光量分布のコントラストが低く解像できなかったパターンに関する露光量分布のコントラストを向上させる。

請求項（抜粋）：

像のコントラストが互いに異なる複数のパターンを有するマスクのパターンの像でレジストを露光する露光方法であって、前記マスクのパターンのうち像のコントラストが低いパターンの像の形成位置を該コントラストが低いパターンの像よりもコントラストが高い像によって露光することにより、前記コントラストが低いパターンに関する露光量分布のコントラストを向上させることを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 502 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 A ,  H01L 21/30 528

Fターム (12件)：

5F046AA05 ,  5F046AA08 ,  5F046AA09 ,  5F046AA13 ,  5F046AA25 ,  5F046BA03 ,  5F046BA08 ,  5F046BA10 ,  5F046CA04 ,  5F046CB17 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01