パターン検査方法及びその装置

発明者： , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：作田康夫 , 井上学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-083833
公開番号（公開出願番号）：特開2005-274172
出願日： 2004年03月23日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：

【課題】複数のプロセッサを使ってセル比較検査、ダイ比較検査、セルダイ混合比較検査が連続的に検査できる外観検査用画像処理装置を提供する。【解決手段】連続画像データを用いて外観検査を行う装置において、複数のプロセッサで並列処理するプロセッサ群と、連続データを所定の画像サイズに分割するために分割境界の前端オーバーラップOFと後端オーバーラップOVを含んで画像データを切出す手段と、切出した画像をプロセッサ群に分配する手段と、プロセッサ群で処理した結果を集計する手段を有し、前端オーバーラップOFはセル比較検査におけるセルピッチサイズ以上にすること,又は参照セルの参照方法の特殊なセル比較画像処理を行うことで分割境界の検査が連続的に実行できる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

表面にパターンが形成された試料を載置して少なくとも一方向に連続的に移動可能なステージ手段と、該ステージ手段が一方向に連続的に移動しているときに該ステージ手段に載置した前記試料を撮像する撮像手段と、該撮像手段で撮像して得られた前記試料の画像を一部が重複する複数の連続した部分画像に分割する分割部と該分割部で分割された連続した部分画像を複数のプロセッサエレメントを用いて並列に処理する処理部を複数備えて前記試料表面のパターンの欠陥を検出する画像処理手段と、前記ステージ手段と前記撮像手段と前記画像処理手段とを制御する制御手段とを備えたことを特徴とするパターン検査装置。

IPC (4件)：

G01N21/956 , G06T1/00 , G06T1/20 , H01L21/66

FI (4件)：

G01N21/956 A , G06T1/00 305A , G06T1/20 B , H01L21/66 J

Fターム (29件)：

2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051CA03 , 2G051CD06 , 2G051EA04 , 2G051EA08 , 2G051EA19 , 2G051EA24 , 2G051EB01 , 2G051EC01 , 2G051ED01 , 2G051ED03 , 2G051ED04 , 4M106AA01 , 4M106CA39 , 4M106DB04 , 4M106DJ01 , 4M106DJ11 , 4M106DJ18 , 4M106DJ20 , 5B057AA03 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CB08 , 5B057CB12 , 5B057CH04 , 5B057DA03 , 5B057DA07 , 5B057DC33

引用特許：

出願人引用 (2件)

並列データ処理装置とそれを用いた外観検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-063273 出願人：株式会社日立製作所
画像処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-109485 出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (7件)

並列処理でのレチクル検査のための方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-616589 出願人：ケーエルエー-テンカーコーポレイション
画像処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-109485 出願人：株式会社ニコン
特許第2976550号

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