特許
J-GLOBAL ID：200903032458130501
ウェハー洗浄方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梅田 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-021146
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217987
出願日： 1992年02月06日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】【構成】 シリコンウェハー2表面に形成した自然酸化膜を除去する前に、HF水溶液の蒸気とH2O2蒸気とを同時にウェハー2へ接触させることにより、H2O2蒸気により形成された酸化膜をHF水溶液の蒸気により除去することにより、ウェハー2に付着した重金属を除去する。その後、従来のHF蒸気及び水蒸気を用いたウェハー洗浄を行い、ウェハー2表面の自然酸化膜を除去する。【効果】 ウェハー表面に付着した重金属をリフトオフ的に除去できるため、洗浄後にウェハー表面に形成した酸化膜の絶縁性が向上する。
請求項（抜粋）：
ウェハー表面への酸化膜形成前に、予め前記ウェハー表面をフッ化水素蒸気及び水蒸気を用いて洗浄するウェハー洗浄方法において、上記洗浄の前に、フッ化水素水溶液の蒸気と過酸化水素水の蒸気との混合ガスを前記ウェハー表面に接触させる工程を有することを特徴とするウェハー洗浄方法。
引用特許：
前のページに戻る
