投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-006407
公開番号（公開出願番号）：特開平5-190423
出願日： 1992年01月17日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】斜入射光式等の焦点検出系を多点化したときに、各測定点で最良結像面を基準としたキャリブレーションを高精度に行なう。【構成】 Zステージ20に発光マーク(スリット)を設け、これからの光を投影レンズによりレチクルR側に結像させ、その反射光を投影レンズRLによって再度発光マーク側に戻し、その戻り光の光量変化をZステージ20を上下動させて検出して、多点AF系の各測定点の信号出力のオフセット値を記憶する。

請求項（抜粋）：

マスクのパターンを所定の結像面内に結像投影する投影光学系と、前記結像面とほぼ平行に感光基板を保持して前記結像面と平行な面内で2次元移動するXYステージと、前記感光基板を前記投影光学系の光軸方向に移動させるZステージと、前記投影光学系の投影視野内の予め定められた複数の位置に計測点を有し、該複数の計測点の夫々で前記感光基板の表面の光軸方向の位置ずれを検出する第1の焦点検出手段とを備えた投影露光装置において、前記Zステージの一部に設けられ、前記結像面と平行な面内で所定の形状をもって発光する発光部が形成された基準板と;該発光部を前記投影視野内の任意の点に位置させたとき、前記発光部から前記投影光学系を介して前記マスクに達した光のうち、該マスクで反射して前記投影光学系を通って前記基準板に戻ってくる光を、前記Zステージを移動させて光電検出することによって、前記結像面を基準とした前記基準板の光軸方向の位置関係を検出する第2の焦点検出手段と;前記第1の焦点検出手段による複数の計測点の位置、もしくはその極く近傍の位置の夫々に前記発光部が順次位置決めされるように前記XYステージの座標位置を指定する指定手段と;該指定された各座標位置で前記第2の焦点検出手段を作動させて検出した各位置関係に基づいて、前記第1の焦点検出手段による前記複数の計測点の夫々での検出誤差を個別に、もしくは平均的に較正する較正手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (17件)

特開平2-207522
特開平1-273318
特開昭63-306626

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