特許
J-GLOBAL ID:200903032491300021
ビフェノールの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
久保山 隆 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-146259
公開番号(公開出願番号):特開2002-338509
出願日: 2001年05月16日
公開日(公表日): 2002年11月27日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 ビフェノールの製造方法を提供する。【解決手段】 フェノールと酸素とをVIII族の遷移金属触媒(例えば、ロジウム、ルテニウム、パラジウム、白金または鉄)の存在下に、反応させることを特徴とするビフェノールの製造方法。例えば、フラスコにトリス(アセチルアセトナト)ロジウムフェノールを入れ、180°Cに昇温した後、酸素-窒素混合ガスを反応液中に通気し、10時間保温することにより目的のビフェノールが得られる。
請求項(抜粋):
フェノールと酸素とをVIII族の遷移金属触媒の存在下に、反応させることを特徴とするビフェノールの製造方法。
IPC (3件):
C07C 37/16
, C07C 39/12
, C07B 61/00 300
FI (3件):
C07C 37/16
, C07C 39/12
, C07B 61/00 300
Fターム (14件):
4H006AA02
, 4H006AC25
, 4H006AC42
, 4H006BA19
, 4H006BA23
, 4H006BA24
, 4H006BA25
, 4H006BA26
, 4H006BE30
, 4H006FC52
, 4H006FE13
, 4H039CA60
, 4H039CD10
, 4H039CD40
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