特許

J-GLOBAL ID：200903032513835374

ポリエステルベースの製造方法

発明者： 佐藤 隆則 ,  奥津 俊光 ,  鈴木 文行
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-238285
公開番号（公開出願番号）：特開平6-087952
出願日： 1992年09月07日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：

【要約】【構成】主たるジカルボン酸であるテレフタル酸と主たるアルキレングリコールであるエチレングリコールとからポリエステルを製造するにあたり、エステル化反応の間に(a) Mg、Mn及びZnのなかより選ばれた原子を含むエチレングリコール可溶性の化合物を添加し、エステル化反応が実質的に終了した段階で(b)燐酸もしくは亜燐酸もしくはこれらのエステル化合物及び(c) 下記一般式(1) で示されるイミダゾール化合物を添加し、エステル化反応の前から重縮合反応を開始するまでの間に(d) 粒径が0.1μmないし4μmの微粒子シリカをエチレングリコールスラリーとして連続的または間欠的に添加し、得られたポリエステルを製膜することを特徴とするポリエステルベースの製造方法。一般式(1)【化1】ここで、R1 とR2 は炭素数1〜8個のアルキル基もしくは芳香族基残基で、同一であっても異なっていても良い。【効果】製膜時の静電印加性に優れ、得られたベースの滑り性と透明性も優れる。

請求項（抜粋）：

主たるジカルボン酸であるテレフタル酸と主たるアルキレングリコールであるエチレングリコールとからポリエステルを製造するにあたり、エステル化反応の間に(a) Mg、Mn及びZnのなかより選ばれた原子を含むエチレングリコール可溶性の化合物を添加し、エステル化反応が実質的に終了した段階で(b) 燐酸もしくは亜燐酸もしくはこれらのエステル化合物及び(c) 下記一般式(1) で示されるイミダゾール化合物を添加し、エステル化反応の前から重縮合反応を開始するまでの間に(d) 粒径が0.1μmないし4μmの微粒子シリカをエチレングリコールスラリーとして連続的または間欠的に添加し、得られたポリエステルを製膜することを特徴とするポリエステルベースの製造方法。一般式(1)【化1】ここで、R1 とR2 は炭素数1〜8個のアルキル基もしくは芳香族基残基で、同一であっても異なっていても良い。

IPC (12件)：

C08G 63/78 NMF ,  C08G 63/78 NMP ,  C08G 63/78 NMQ ,  C08G 63/78 NMR ,  B29C 55/12 ,  C08G 63/692 NNM ,  C08J 5/18 CFD ,  C08K 3/36 ,  C08K 5/3445 KJZ ,  C08K 5/51 KKD ,  C08L 67/02 KJS ,  B29K 67:00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-292323
  
• 特開平4-001224
  
• 特開平3-269016
  
• 特開平3-234735