特許

J-GLOBAL ID：200903032519048072

投影露光装置

発明者： 谷口 哲夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-058932
公開番号（公開出願番号）：特開平7-273005
出願日： 1994年03月29日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：

【要約】【目的】 投影光学系に瞳フィルターを出し入れするか、又は交換したような場合でも、常に結像特性を所望の状態に近い状態に維持して露光を行う。【構成】 ターレット板4中の開口絞りを通過した照明光が、コンデンサーレンズ11B等を経てレチクルRを照明し、レチクルRのパターンが投影光学系PLを介してウエハW上に露光される。露光するレチクルRの種類等に応じて投影光学系PLの瞳面付近に瞳フィルター30Aを設定する。照明光学系中の開口絞り、及び瞳フィルター30A等に応じて、主制御系6内でパラメータを切り換えて欠像特性の変化量を求め、副制御系24によりレチクルRの微動等を行って結像特性を補正する。

請求項（抜粋）：

転写用のパターンが形成されたマスクを照明する照明手段と、該照明手段による照明光のもとで前記マスクのパターンの像を感光基板上に所定の結像特性で投影する投影光学系と、を有する投影露光装置において、前記投影光学系内の瞳面、又はその近傍の面上で、偏光特性分布、透過率分布及び位相分布よりなる光学特性群の内の少なくとも1つの光学特性を変化させる光学特性可変手段と、前記投影光学系による前記感光基板上での投影像の結像状態を調整する結像状態調整手段と、前記光学特性可変手段により対応する光学特性を変化させた場合に生ずる前記投影光学系による前記感光基板上での投影像の所定の結像特性の変化を、前記結像状態調整手段を介して補正する結像特性補正手段と、を備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 526 A