特許

J-GLOBAL ID：200903032525012969

マスク共通欠陥判定の方法および装置ならびにマスク共通欠陥チップ測定除外の方法および装置

発明者： 八重樫 敏彦
出願人/特許権者： 岩手東芝エレクトロニクス株式会社 ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-073484
公開番号（公開出願番号）：特開2000-269275
出願日： 1999年03月18日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：

【要約】【課題】ウェーハテストに際して、マスクの共通欠陥を短時間で判定し、リアルタイムな判定を可能とし、判定結果のばらつきをなくする。【解決手段】半導体製品のウェーハテストの結果を表示したウェーハマップデータを、マスクのショットマップデータに基づき、横軸(X軸)、縦軸(Y軸)の方向に分割して重ね合せ、同一位置における欠陥割合が設定された基準値を越える場合にマスク共通欠陥であると判定することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

半導体製品のウェーハテストの結果を表示したウェーハマップデータを、マスクのショットマップデータに基づき、横軸(X軸)、縦軸(Y軸)の方向に分割して重ね合せ、同一位置における欠陥割合が設定された基準値を満たさない場合にマスク共通欠陥であると判定することを特徴とするマスク共通欠陥判定方法。

Fターム (10件)：

4M106AA01 ,  4M106AA09 ,  4M106DA14 ,  4M106DA15 ,  4M106DH01 ,  4M106DJ17 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ27

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭60-004231