特許

J-GLOBAL ID：200903032529161314

表面反射防止塗布組成物及びパターン形成方法

発明者： 西 峰雄 ,  寺本 正史
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-145783
公開番号（公開出願番号）：特開平9-325500
出願日： 1996年06月07日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：

【要約】【課題】 水性溶媒にて良好に塗布膜を形成、除去ができ、且つ、従来品と比較して低屈折率が達成できる表面反射防止塗布組成物、及びレジスト塗布膜厚の変化による感度、パターン寸法の変化が抑制されたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 水溶性フッ素化合物、及び水性溶媒を主成分とするフォトレジストの上面に塗布される表面反射防止塗布組成物において、該水溶性フッ素化合物として、重量平均分子量が1100〜6000であるパーフルオロアルキルポリエーテルカルボン酸を用いる表面反射防止塗布組成物およびこれを用いたパターン形成方法。

請求項（抜粋）：

水溶性フッ素化合物、及び水性溶媒を主成分とする表面反射防止塗布組成物において、該水溶性フッ素化合物として、重量平均分子量が1100〜6000であるパーフルオロアルキルポリエーテルカルボン酸を用いることを特徴とする表面反射防止塗布組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/11 501 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/11 501 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/30 574