特許
J-GLOBAL ID:200903032534630870
研磨スラリー及び方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
竹内 澄夫
, 堀 明▲ひこ▼
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-072933
公開番号(公開出願番号):特開2004-277615
出願日: 2003年03月18日
公開日(公表日): 2004年10月07日
要約:
【課題】高い研磨力で研磨対象物の表面を平滑で平坦な表面に研磨できる研磨スラリー及び方法を提供することである。また、粗研磨を行わずに、研磨対象物の表面を平滑で平坦な表面に研磨できる研磨スラリー及び方法を提供することである。【解決手段】水、酸化性のある無機酸、還元性のある有機酸、酸化性のある有機酸及び酸化剤からなる水溶液中に、シリカ粒子を分散した酸性の研磨スラリーであって、酸化性のある無機酸として、塩酸及び硝酸から選択される少なくとも一種の物質が使用され、還元性のある有機酸として、蓚酸及び蓚酸アンモニウムから選択される少なくとも一種の物質が使用され、酸化性のある有機酸として、乳酸、コハク酸、マロン酸、酒石酸及びクエン酸から選択される少なくとも一種の物質が使用され、酸化剤として、過酸化水素水が使用される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
研磨粒子、及びこの研磨粒子を分散させる水溶液から成る研磨スラリーであって、
前記水溶液が、
水、
酸化性のある無機酸、
還元性のある有機酸、
酸化性のある有機酸、及び
酸化剤、
から成り、
前記研磨粒子として、シリカ粒子が使用され、
前記酸化性のある無機酸として、塩酸及び硝酸から選択される少なくとも一種の物質が使用され、
前記還元性のある有機酸として、蓚酸及び蓚酸アンモニウムから選択される少なくとも一種の物質が使用され、
前記酸化性のある有機酸として、乳酸、コハク酸、マロン酸、酒石酸及びクエン酸から選択される少なくとも一種の物質が使用され、
前記酸化剤として、過酸化水素水が使用され、
当該研磨スラリーが、酸性を示す、
ところの研磨スラリー。
IPC (7件):
C09K3/14
, B24B1/00
, B24B37/00
, C09K3/00
, C09K13/04
, C09K13/06
, G11B5/84
FI (8件):
C09K3/14 550D
, C09K3/14 550Z
, B24B1/00 D
, B24B37/00 H
, C09K3/00 108C
, C09K13/04
, C09K13/06 101
, G11B5/84 A
Fターム (13件):
3C049AA07
, 3C049AC04
, 3C049CA01
, 3C049CB03
, 3C058AA07
, 3C058CA01
, 3C058CB03
, 3C058CB10
, 3C058DA02
, 5D112AA02
, 5D112BA06
, 5D112GA09
, 5D112GA14
前のページに戻る